惠州氰化镀铜产业前景诱人市场广阔,三邦打造品牌服务,氰化镀铜工艺详情如下,请大家注意看了：
一、特点：
1、铜镀层结晶细致,光亮及均匀。
2、电流密度范围宽阔,覆盖能力极佳。
3、有机或无机杂质容忍度高,易于控制。
4、使用于钢铁、铜、青铜等不同基体的工件,尤为适合于锌合金压铸件。
5、镀液可用氰化钾或氰化钠配制,效果同样理想。
二、镀液之配制：
1、注入三份之二的水于已清洗之代用缸中,加热至50℃。
2、加入所需的氢氧化钠,溶解后,再加入所需的氰化钠,搅拌至完全溶解。
3、加入所需的氰化铜,强力搅拌,直至完全溶解。
4、加入6克/升活性碳粉,连续搅拌约三小时,沉淀四小时或以上。
5、用过滤泵,把镀液滤入清洁的电镀槽内,加水至所需水位。
6、用波浪状假阴极,以低电流密度（ 安培/平方分米）连续电解6-8小时或以上。
7、加入SB-3和SB-4添加剂后,便可以开始电镀。
三．组成原料的功用
氰化铜（CuCN）,,,,,,
氰化铜是供给镀液铜离子的来源。镀液中铜离子含量应在37-50克/升。如铜金属含量在35克/升以下,所用的电流密度（在阴极摇摆方法）不能超越3安培/平方分米。相反的,当采用高电流密度时,金属含量也要提高。总括来说,电流密度与镀液中的适当金属含量,搅拌程度,游离氰化钠含量,温度和光亮剂含量等有相互关连。
氰化钠（NaCN）,,,,
镀液中的游离氰化钠与铜含量的相互关系。当铜含量为37-50克/升,游离氰化钠应在15-20克/升之间。所以当游离氰化钠在10克/升以下,低电流密度区会起云雾,当游离氰化钠在20克/升以上,阴极电流效率减低,同时阴极会有大量气体产生。所以游离氰化钠的 值随金属铜量而定。例如金属铜含量为35克/升,而需要用低电流密度时,游离氰化钠应为12克/升左右。
氢氧化钠(NaOH),,,,
,氢氧化钠可提高镀液的导电性。如工件为锌合金铸件时,氢氧化钠宜保持在1-3克/升,以免碱度太高而侵蚀锌合金。如工件全部是钢铁件时,氢氧化钠浓度可调升至10-30克/升。
四．添加剂的作用和补充
SB-3,碱铜添加剂,,
,为有机光亮剂,能使高电流密度区光亮,更是表面活性剂,减低镀层出现针孔机会。
SB-4,碱铜添加剂,,
,与SB-3碱铜添加剂一起运用时,能得到全面光泽,即由高至低电流密度区同样光亮。