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哈氏槽又称霍尔槽,赫尔槽,HULL,CELL,l如图,健辉哈氏槽就是一个267ml,哈氏槽的原理,　　是一种对电镀溶液既简单又实用的试验槽,系为, ,先生在,1939,年所发明的。有,267,ml、500,ml及,1000,ml三种型式,但以,267,ml最为常用。可用以式验各种镀液,在各种电流密度下所呈现的镀层情形,以找出实际操作 的电流密度,属于一种“经验性“的试验。通常的做法是将表面故意皱折的阳极,至于所用之电流密度及时间则随各种镀液而不定,须不断试做以找出标准条件。镀后可将阴极片的下缘,对准“电流密度尺“上某一所用电流密度处,即可看出阴极片上 区域所对应的实际电流密度。哈氏槽还有另一用途,是将阳极放在第,1,边而将阴极放在第3,边,亦可看出阴极片上最左侧低电流区的镀层情形