简介：
美国Filmetrics公司生产的膜厚测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量,可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率,测量迅速,操作简单,界面友好,是目前市场上 性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线,波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在1nm到1mm之间,测量精度高达1埃,测量稳定性高达 埃,测量时间只需一到二秒,,并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）,,液晶显示(Displays),,硬涂层(Hard,coats),,金属膜(Metal),,眼镜涂层(Ophthalmic),,,聚对二甲笨(Parylene),,电路板(PCBs&PWBs),,多孔硅(Porous,Silicon),,光阻材料(Thick,Resist),半导体材料(Semiconductors),,,太阳光伏(Solar,photovoltaics),,真空镀层(Vacuum,Coatings),,圈筒检查(Web,inspection,applications)等。

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