SI,500,D主要特点:,
?,平板三螺旋天线式PTSA等离子源(P)lanar,(T)riple,(S)piral,(A)ntenna,
?,高速率沉积,
?,低损伤,
?,高质量低温沉积电介质膜,
?,(T,＞=80°C),
?,远程控制,
?,SENTECH高级等离子设备操作软件,
?,穿墙式安装方式,

系统配置:,
?,PTSA,ICP等离子源( ,MHz,,1200,W),
?,两路循环进气,
?,6,MFC控制气路(SiH4,,NH3,,N2O,,O2,,Ar,,CF4),
?,预真空锁loadlock,,带有取放机械手,
?,高速率真空泵系统,独立气流压强控制,
?,绝缘电极,支持6“,基底或6“,托架(支持小晶圆,小片样品),
?,基底温度可到350oC,
?,远程控制(RFC),
?,Windos,XP操作系统,
?,SENTECH高级等离子设备操作软件,

特性:,
?,全自动/手动过程控制,
?,Recipe控制沉积过程,
?,智能过程控制,包括跳转、循环]调用recipe。,
?,多用户权限设置,
?,数据资料记录,
?,LAN网络接口,
?,Windows,NT,操作软件,

Options:,
?,增加气路,
?,Cassette到cassette操作方式,
?,穿墙式安装,
?,激光干涉终点探测系统SENTECH,,SI,591-UK,,恒温水循环器,温度范围5℃-40℃
SENTECH,,SI,500,-12,,一路非腐蚀气体管路,带质量流量计
SENTECH,,SI,500,-12C,,一路腐蚀气体管路,带质量流量计
SENTECH,,SI,500-DDP,,干泵代替标准配置中机械泵
SENTECH,,SI,500-LPS,,liquid,precursor,supply,systerm液体挤压
无【技术指标】,SENTECH,ICP,PECVD,SI500D等离子体沉积设备介绍
【应用指南】,SI500D,ICP,PECVD,PPT,工艺和应用
无无