沈阳仪表院研制国产IC光刻系统精密紫外反光镜

时间：2015-05-25 12:06:22 来源：中国机械网 点击量：84

    
　　沈阳仪表科学研究院在大力开发IC装备整机设备的同时，还在积极研制IC装备核心零部件产品。经过两年多的技术攻关，仪表院光学公司成功研制出具有自主知识产权的IC光刻系统精密紫外反光镜产品。

　　精密紫外反光镜是IC光刻系统的关键部件，还用于紫外曝光机、紫外固化机、医疗设备和晒版机等设备，在光显示和电子等领域广泛应用。由于设计制造难度大、工艺技术复杂，长期以来只能依赖进口。2013年初，汇博光学成立专项研究小组，有计划开展IC光刻系统用紫外反光镜产品研究开发工作。研发小组结合光学公司多年的反光镜产品设计研发经验，收集国际前沿技术信息，自主创新，积极开拓，成功开发出国际水平的IC光刻系统精密紫外反光镜产品。

　　此产品可耐高温450℃，利用自主创新工艺实现非球面成形。反射波段范围在300nm-440nm，反射率大于95%，达到反射紫外光滤除其它可见光的目的。关键技术指标均达到国际先进水平。

　　IC光刻系统精密紫外反光镜产品的成功开发，填补了该项技术的国内空白，在精密非球面加工和检测技术、非球面耐高温薄膜的镀制等方面均获得技术突破，将有力推动光学薄膜行业的技术进步。

　　汇博光学现已形成口径55mm-362mm系列精密紫外反光镜产品，现已与10余家客户建立合作，近期将推出645mm大口径产品。

　　精密紫外反光镜产品将逐渐成为仪表院光学公司反光镜产品线主导产品。