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一.概述

金属薄膜的真空蒸发是在高真空(10-4 mba以上)下，通过电阻、高频或电子束加热熔融蒸发金属，并附着在薄膜衬底表面，形成复合薄膜的过程。电镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等。，其中铝是常用的。在塑料薄膜或纸张表面镀上一层极薄的金属铝，就成为镀铝薄膜或纸张。

包装用真空镀铝薄膜具有以下特点:

(1)与铝箔相比，大大减少了铝的消耗，节约了能源和材料，减少了成本。复合铝箔的厚度大多为7-9 μm，而镀铝薄膜的铝层厚度约为400 μm(0.04 μm)，其铝消耗量约为铝箔的1/200，生产速度可达700 m/min。

(2)具有优良的耐折性和良好的韧性，针孔和裂纹少，无扭曲和开裂现象，改善了对气体、水蒸气、气味、光等的阻隔性。

(3)具有优良的金属光泽，光反射率可达97%；并且可以通过涂层处理形成彩膜，装饰效果小于铝箔。

(4)部分镀铝可以通过屏蔽或洗脱进行，以获得很多图案或透明窗口来观察包装的内容物。

(5)镀铝层具有良好的导电性，可以消除静电效应。尤其是包装粉状产品时，不会污染密封部件，保障包装的密封性能

由于上述特点，镀铝薄膜已成为一种性能优良、经济美观的新型复合膜，并在许多方面取代了铝箔复合材料。主要用于包装风味食品、日用品、农产品、药品、化妆品和香烟。

二、真空蒸发的原理

将待镀辊状薄膜基片安装在真空蒸发机的退绕工位上，通过冷却辊(蒸发辊)将薄膜卷绕在卷绕工位上，用真空泵抽真空，使蒸发室内的真空度达到4×10-4 MBA以上，加热蒸发舟，使高纯铝线在1300-1400℃熔化蒸发成气态铝..启动薄膜卷绕系统。当薄膜运行速度达到相应值时，打开挡板，将气态铝颗粒沉积并冷却在移动薄膜衬底表面，形成连续光亮的金属铝层。真空镀铝的示意图如图1所示。镀铝层的厚度通过控制金属铝的蒸发速度、衬底膜的移动速度、蒸发室内的真空度等来控制。通常，镀铝层的厚度为250至500。

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