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在熔高阻硅片中，可以使本征区熔高阻硅片成为一种具有良好抗静电、耐高温的保护层。由于本征区熔高阻硅片生产技术较好，质量稳定、成本低廉，具有固定的竞争力；而在原来的生产线上则因为设备老化、工艺落后等原因不能适应市场需求。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中可以使用固定量的溶性盐酸，经过浸泡或化学脱盐处理后可以作为溶液进行溶解，从而减少了对表面光滑度和光亮度要求。在高温下，本征区熔高阻硅片表面的二氧化硅吸附物质不易被破坏；对于推动高温本征区熔高阻硅片表面二氧化锰吸附物质的破坏和防治高温熔硅片表面的二氧化锰吸附物质的防治，提供了理论基础。

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4寸区熔本征单晶硅片 厂家,本征区熔高阻硅片在其清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，并在表面成保护层，防止颗粒的二次吸附。本征区熔高阻硅片在清洗剂中的活性物质含量达到了99%以上，而同类产品中活性物质含量只有2%。本征区熔高阻硅片中有效成品率为90%～90%。其中，有机硅片的活性物质吸附率高，达9%；而无机硅片的活性物质吸附率仅为8～5%。由此可见，本征区熔高阻硅片在清洗剂中的活性物质含量不仅与其他类似产品相比低得多，还具备较好的抗氧化能力。