镀膜机厂家_广东报价合理的立式蒸发镀膜设备供应， 恒誉真空是一家具有实力的立式蒸发镀膜设备生产企业，一直把满足客户要求作为企业经营的核心，严把质量关口，努力提率是我们的目标。我司坚持不懈，努力为中小企业提供适应市场需求的立式蒸发镀膜设备。“创新产品种类，严格质量控制”，公司遵循着这样的原则，持续为客户提供有口碑的立式蒸发镀膜设备。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司，成立于2012-07-23，经过时间的历练与快速发展，造就今日恒誉真空产品质量的基础。我司坚持以人为本，诚信务实，创新进取，回报社会。供应的立式蒸发镀膜设备，全部采用的生产原料，产品质量值得信赖，广大客户可放心使用。

镀膜机厂家，

磁控溅射

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。

随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

磁控溅射种类

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。

机械和行业设备专用配件是恒誉真空的主要经营方向，在全国;广东、肇庆范围采用批发;零售;的方式为海量的中小企业提供的产品。我司以人为本，尊重客户需求。若选择我司提供的立式蒸发镀膜设备，我们将以陆运;公路运输的方式发货，请您细心留意产品的物流详情。

镀膜机厂家_广东报价合理的立式蒸发镀膜设备供应， 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司的发展离不开社会各界的关心与支持。回顾过去，展望未来，恒誉真空将不断努力为中小企业提供好的立式蒸发镀膜设备。公司实施可靠化、集约化的经营策略，发挥公司各方面的优势，专注发展机械五金产业。凭借多年经验，整合有效的解决方案，最终提升客户价值，实现双赢。我们愿与您携手合作，共创美好明天。欢迎各界朋友莅临指导！地址肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧。